(1) 浴法抛光：浴法抛光是指工件和抛光盘都浸在抛光液中
，所用装置示意图抛光液的深度以设备静止时覆没工件 10～15mm 为宜
，搅拌器是使抛光液处于悬浮状态
，不产生沉淀
，抛光玻璃时通常使用氧化铁(红粉)、氧化铝等抛光资料。

(2) 离子束抛光：离子束抛光是玻璃工件在传统抛光后
，用来进一步提高抛光精度的补充抛光步骤。先在真空(1.33Pa)前提下
，将惰性气体(氩、氪、氙等)原子使用高频或放电等步骤使之成为离子
，再用20～25kV的电压加快
，而后碰撞到位于1.33×10 Pa真空度的真 空室内的被加工工件表表上
，将能量直接传给工件资料原子
，使其逸出表表而被去除。这种步骤能够使工件去除厚度达10～20μm
，是典型的用物理碰撞步骤进行的抛光技术
，通常情况下表表粗糙度可达0.01μm
，精度高的达0.6nm。

(3) 等离子体辅助抛光：等离子体辅助抛光是利用化学反映往来除表表资料而实现抛光的步骤
，选取特定气体
，造成活性等离子体
，当活性等离子体与工件表表作用
，产生化学反映
，天生易挥发的混合气体
，从而将工件表表资料去除。由于玻璃研磨时
，机械作用是重要的
，所以磨料的硬度必须大于玻璃的硬度。 光学玻璃和日用玻璃研磨加工余量大
，所以通常用刚玉或天然金刚砂研磨效能高。平板玻璃的研磨加工余量幼
，但面积大
，用量多
，通常选取价廉的石英砂。

常用抛光资料有红粉（氧化铁）、氧化铈、氧化铬、氧化锆、氧化钍等
，日用玻璃加工也有选取长石粉的。光学产品新型抛光技术对于光学玻璃加工
，传统的研磨及抛光步骤
，从精度和效能方面已不适应。目前发展了很多新的加工技术
，如数控研磨和抛光技术、离子束抛光技术、应力盘抛光技术、超光滑表表加工技术、延展性磨削加工、弹性发射抛光法、激光抛光、震荡抛光等
，这些新技术
，已齐全适应光学领域迅猛发展的要求。光学透镜新的加工技术
，都边检测、边建改
，不仅加工精度高
，并且加工速度提高几倍到几十倍
，对人为技术的依赖性已很幼
，新研磨和抛光技术的智能化水平都很高
，沉复精度高。数控研磨和抛光、应力盘抛光技术等
，专门针对球面和 非球面光学透镜的加工
，极度专业化。