此刻市面上好的太阳膜其造作步骤多半为以下两种：一种是真空蒸发镀膜法
。一种是磁控溅射法
。

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1.真空蒸发镀膜法就是在1.3×10-2~1.3×10-3Pa(10-4~10-5Torr)的真空中以电阻加热镀膜资料，使它在极短的功夫内蒸发，蒸发了的镀膜资料分子沉积在基材表冇上形成镀膜层
。真空镀膜室是使镀膜资料蒸发的蒸发源，还有支承基材的工作架或卷绕装置都是真空蒸发镀膜设备的重要部门
。镀膜室的真空度，镀膜资料的蒸发纯熟地，蒸发距离和蒸发源的间距，以及基材表表状态和温度都是影响镀膜质量的成分
。

2. 磁控溅射法是指电子在电场的作用下加快飞向基片的过程中与氩原子产生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片
。氩离子在电场的作用下加快轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜
。二次电子在加快飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响，被约束在靠近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度很高，二次电子在磁场的作用下萦绕靶面作圆周活动，该电子的活动蹊径很长，在活动过程中不休的与氩原子产生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材，经过屡次碰撞后电子的能量逐步降低，脱节磁力线的约束，远离靶材，最终沉积在基片上
。

磁控溅射法与蒸发法相比，拥有镀膜层与基材层的结合力强，镀膜层致密，均匀蹬着点
。真空蒸发镀膜法必要使金属或金属化合物蒸发气化，而加热温杜字不能太高，不然气相蒸镀金属会烧坏被塑料基材，因而，真空蒸镀法通常仅合用于铝等熔点较低的金属源，是目前利用较为宽泛的真空镀膜工艺
。相反，喷溅镀膜法利用高压电场引发产生等离子体镀膜物质，合用于险些所有高熔点金属，合金、非金属及金属化合物镀膜源物质，如铬，钼，钨，钛，银，金等
。并且它是一种强造性的沉积过程，选取该法获得的镀膜层与基材附着力远高于真空蒸发镀法，镀膜层拥有致密，均匀蹬着点，加工成本也相对较高
。

目前占有磁控溅射技术的太阳膜出产厂家有：美国韶华科技公司(Southwall)、美国贝卡尔特公司(Bekaert)、美国CPFilms公司
。利用磁控溅射技术所出产的太阳膜拥有膜层致密、均匀，有优良的透光性和良好的光谱选择机能，使其可能为车主带来舒服、安全的行车环境
。