光学冷加工工艺

第1路：铣磨，是去除镜片表表凹凸不平的气泡和杂质,(约0.05-0.08)起到成型作用.

第2路 精磨，是将铣磨出来的镜片将其的粉碎层给解除掉,固定R值.

第3路 抛光，是将精磨镜片再一次抛光,这路工序重要是把表观做的更好。

第4路 洗濯，是将抛光过后的镜片将其表表的抛光粉洗濯干净.预防压克.

第5路 磨边，是将原有镜片表径将其磨削到指定表径。

第6路 镀膜，是将有必要镀膜镜片表表镀上一层或多层的有色膜或其他膜

第7路 涂墨，是将有必要镜片预防反光在其表袁涂上一层黑墨.

第8路 胶合，是将有2个R值相反大幼和表径材质一样的镜片用胶将其结合.

特殊工序:多片加工(成盘加工)和幼球面加工(20跟轴)线切割

凭据分歧的出产工艺，工序也会稍有出入，如涂墨和胶合的先后秩序。

（图源网络，侵删）

玻璃镜片抛光工艺

用抛光机和抛光粉或抛光液一路下进行抛光要设定抛光功夫,压力等参数. 抛光后要立即进行洗濯可浸泡,不然抛光粉会固化在玻璃上,会留有痕迹的.

1.抛光粉的资料

抛光粉通常由氧化铈、氧化铝、氧化硅、氧化铁、氧化锆、氧化铬等组份组成，分歧的资料的硬度分歧，在水中的化学性质也分歧，因而使用场所各不一样。氧化铝和氧化铬的莫氏硬度为9，氧化铈和氧化锆为7，氧化铁更低。氧化铈与硅酸盐玻璃的化学活性较高，硬度也相当，因而宽泛用于玻璃的抛光。

为了增长氧化铈的抛光速度，通常在氧化铈抛光粉参与氟以增长磨削率。铈含量较低的混合稀土抛光粉通常掺有3-8的氟;纯氧化铈抛光粉通常不掺氟。

对ZF或F系列的玻璃来说，由于自身硬度较幼，并且资料自身的氟含量较高，因而应选用不含氟的抛光粉为好。

2.氧化铈的颗粒度

粒度越大的氧化铈，磨削力越大，越适合于较硬的资料，ZF玻璃应该用偏细的抛光粉。要把稳的是，所有的氧化铈的颗粒度都有一个散布问题，均匀粒径或中位径D50的大幼只决定了抛光速度的快慢，而最大粒径Dmax决定了抛光精度的凹凸。因而，要得到高精度要求，必须节造抛光粉的最大颗粒。

3. 抛光粉的硬度

抛光粉的真实硬杜纂资料有关，如氧化铈的硬度就是莫氏硬度7左右，各类氧化铈都差不多。但分歧的氧化铈体给人感触硬度分歧，是由于氧化铈抛光粉通常为团圆体。当然，有的抛光粉中参与氧化铝等较硬的资料，阐发出来的磨削率和耐磨性城市提高。

4. 抛光浆料的浓度

抛光过程中浆料的浓度决定了抛光速度,浓度越大抛光速度越高。使用幼颗粒抛光粉时，浆料浓度因适当调低

镜片抛光

光学镜片经过研磨液细磨后，其表表尚有厚约 2–3 m 的裂缝层，要解除此裂缝层的步骤即为抛光。抛光与研磨的机造一样，唯其所使用的工具材质与抛光液 (slurry) 分歧，抛光所使用的资料有绒布 (cloth)、抛光皮 (polyurethane) 及沥青 (pitch)，通常要达到高精度的抛光面，最常使用的资料为高级抛光沥青。利用沥青来抛光，是藉由沥青详细的表表，带头抛光液研磨镜片表表生热，使玻璃溶解流动，熔去粗糙的顶点并填平裂缝的谷底，逐步把裂缝层除去。

目前抛光玻璃镜片所使用的抛光粉以氧化铈 (CeO2) 为主，抛光液调配的比例依镜片抛光时期分歧而有所分歧，通常抛光初期与和抛光模应时使用浓度较高的抛光液，镜片表表光亮后，则改用浓度较稀的抛光液，以预防镜面产生橘皮景象 (镜片表表雾化)。

抛光与研磨所用的活动机构一样，除了抛光的工具与工作液体不一样表，抛光时所需环境前提亦较研磨时严苛。通常抛光时要把稳的事项如下：

抛光沥青的表表与抛光液中不成有杂质，不然会造成镜面刮伤。

抛光沥青表表要与镜片表表吻合，不然抛光时会产生跳动，因而咬持抛光粉而刮伤镜片表表。

抛光前必须确定镜片表表是否有研磨后所留下的刮伤或刺孔。

抛光工具的大幼与材质是否适当。

沥青的软硬杜纂厚度是否适当。

抛光的过程中必须随时把稳镜片表表的情况及精度查抄。透镜表表瑕疵的查抄，由于检测的过程是凭幼我视觉及步骤来判断，所以检验者应对刮伤及砂孔的规范有深刻的认知，要时时比对刮伤与砂孔的尺度样版，以确保检验的正确性。

光学冷加工工艺资料的具体描述(工艺过程老化)

1.　 抛光粉

1.1 对抛光粉的要求

a.　 颗粒杜爪均匀，硬度通常应比被抛光资料稍硬;

b.　 抛光粉应圣洁，不含有可能引起划痕的杂质;

c.　 应拥有肯定的晶格状态和缺点，并有适当的自锐性;

d.　 应拥有优良的分散性和吸附性;

e.　 化学不变性好，不致侵蚀工件。

1.2 抛光粉的种类和机能

常用的抛光粉有氧化铈(CeO2)和氧化铁(FeO3)。

a.　 氧化铈抛光粉　颗粒呈多边形，棱角显著，均匀直径约2微米，莫氏硬度7～8级， 比沉约为7.3。由于造作工艺和氧化铈含量的分歧，氧化铈抛光粉有白色(含量达到98% 以上)、淡黄色、棕黄色等。

b.　 氧化铁抛光粉 俗称红粉，颗粒呈球形，颗粒大幼约为0.5～1微米，莫氏硬度4～7 级，比沉约为5.2。色彩有从黄红色到深红色若干种。

综上所述，氧化铈比红粉拥有更高的抛光效能，但是对表表光洁度要求高的零件，还是使用红粉抛光成效较好。

2.　 抛光模层(下垫)资料 )常用的抛光模层资料有抛光胶和纤维资料。

2.1 抛光胶

抛光胶别名抛光柏油，是由松香、沥青以分歧的组成比例配造而成，用于光学零件的精密抛光。

2.2 纤维资料

在光学工件的抛光中，若对抛光面的面形精度(光圈)要求不高时，长选取呢绒、毛毡及其它纤维物质作为抛光模层的资料。

3.　 常用测试仪器

光学零件的某些质量指标，如透镜的曲率半径、棱镜的角度，必要用专门的测试仪器来丈量。常用的仪器有：光学比力侧角仪、激光平面过问仪、球径仪和刀口仪等。

4.　 抛光

在抛光过程中增长抛光液要适当。太少了参加作用可能的抛光粉颗粒削减，降低抛光效能。太多了，有些抛光粉颗粒并不参加工作，同时也带来大量液体使玻璃边面的温度降落，影响抛光效能。抛光液的浓度也要适当，浓度太低，即水分太多，参加工作的抛光粉颗粒削减并使玻璃表表温度降低，因而降低抛光效能。浓度太高，即水分带少，影响抛光压力，抛光粉不能迅速散布均匀，导致各部压力不等，造成部门多磨，对抛光的光圈(条纹)质量有影响。并且单元面积压力削减，效能降低，抛光过程中产生的碎屑也不能顺利排除，使工件表表粗糙。通常是起头抛光时抛光液稍浓些，快落成时，抛光液淡些，增长次数少些，这有利于提高抛光效能和光洁度。另表，通常以为抛光液的酸度(pH值)应节造在6～8之间，不然玻璃表表会被侵蚀，影响表表光洁度。

在抛光过程中查抄光圈(条纹)时，如不合格，能够通过调整抛光机的转速和压力、工件与模具(抛光机下盘)的相对速度、相对位移、摆速和建整抛光模层等步骤进行批改。

a.提高主轴转速，能增长边缘部位与上模接触区域的抛光强度。经验证明，若速度过高，抛光表表温度升高，从而使抛光模层硬度降低，影响批改光圈(条纹)的成效。

b.增长荷沉以加大压力时，可提高整个抛光模和工件间接触区域的抛光强度，也将使抛光表表的温度升高，降低抛光模层的硬度。

c.加大铁笔(上盘主轴)的位移量，可使上盘的中央部位和下盘的边缘部位同时得到建整。

d.加大摆幅长度，增长摆轴速度会使上盘的中央部位和下盘的边缘部位加快抛光。

e.刮槽是削减开槽部门的压力接受面和摩擦面，因而抛光下盘在开槽部门的抛光效力降低。反之，未开槽部门的抛光效力有所增大。均匀开槽时，能使抛光下盘的流动性适合与工件表表的曲率。同时，既能使抛光液含量增长，容易渗入抛光下盘面而增长抛光效力，又能减轻抛光机传动负荷。

综上所述，为了节造和不变抛光前提，工作场地应维持较为不变的温度(25°C左右)和湿度(相对湿度为60～70%)。

研磨或抛光对光学镜片侵蚀的影响

光学玻璃侵蚀是陪伴着光学玻璃抛光及抛光下盘以来的全过程,它受抛光粉及抛光用水的酸碱度以及抛光液使用功夫一连趋于呈碱性及周围环境中湿润空气、酸性气体等成分影响而产生的一种化学侵蚀。因而,能够以为光学玻璃侵蚀是一个化学过程,若是仅仅停顿在抛光下盘以来,选取若干防护措施,显然是不够的。应在抛光过程中就采取必要的防护措施。

ZF、ZBaF、LaK等光学玻璃在抛光过程中及抛光下盘以来的侵蚀问题,持久以来一向影响着这些光学玻璃零件的加工质量和出产效能。通过对光学玻璃在抛光过程中不变性课题的钻研和出产尝试,研造并筛选出比力梦想的光学玻璃抛光增长剂;即在这些化学不变性差的光学玻璃抛光液中,增长适当的pH值调节剂及表表不变剂,削减了ZK、ZF、ZBaF、LaK等系列化学不变性差的光学玻璃在抛光过程中的侵蚀问题,显著提高了抛光表表质量和合格率,并进一步提高了光学玻璃零件加工的效能和效益及其工艺技术水平.

一、引言

光学玻璃侵蚀是陪伴着光学玻璃抛光及抛光下盘以来的全过程,它受抛光粉及抛光用水的酸碱度以及抛光液使用功夫一连趋于呈碱性及周围环境中湿润空气、酸性气体等成分影响而产生的一种化学侵蚀。因而,能够以为光学玻璃侵蚀是一个化学过程,若是仅仅停顿在抛光下盘以来,选取若干防护措施,显然是不够的。应在抛光过程中就采取必要的防护措施。随着中高档光学仪器需要量的增长,ZK、ZF、ZBaF、 LaK等化学不变性差的光学玻璃利用比力普遍,因而,光学玻璃在加工过程中的侵蚀问题,显得更为凸起。光学玻璃的侵蚀是一个化学过程。遵循光学玻璃在抛光过程中的化学作用这一根基思路,除选择合理的工艺参数表,对光学玻璃在抛光过程中产生侵蚀问题采取积极的防护措施:即在抛光液中增长适当的pH值调节剂和表表不变剂,为光学玻璃抛光创造一个优良的工艺前提;再在抛光下盘以来,采取若干防护措施,提高化学不变性差的光学玻璃防侵蚀的靠得住性,根基上可解决与光学玻璃加工相伴而行的化学侵蚀问题,获得较好的成效。

二、光学玻璃侵蚀及其表象光学玻璃的耐水性及耐周围环境酸、碱等分歧介质的侵蚀,重要取决于光学玻璃化学不变性,这与分歧光学玻璃组成结构及SiO2的含量有关。但在光学玻璃抛光过程中的侵蚀,更直接原因则是受抛光液的酸、碱性的影响;抛光下盘以来,则是受周围湿润空气及带酸性气体等成分的影响。玻璃的水解作用,能够当作是水与玻璃表表硅酸盐产生水合和水解作用反映,使玻璃表表碱金属或碱土金属离子置换出来,了局在玻璃表表形成硅酸凝胶、氢氧化物、碳酸盐等。即Na2SiO3+2H2O=H2SiO3+2NaOH

2NaOH+CO2=Na2CO3+H2O

BaSiO3+2H2O=H2SiO3+Ba(OH)2

溶液出现碱性时形成的硅酸凝胶薄膜减缓水的侵蚀作用。但硅酸凝胶薄膜往往呈多孔状或因龟裂而产生裂纹,因而富集在溶液中的碱就会进一步侵蚀玻璃的网络体,使玻璃结构遭到粉碎。若是SiO2含量高,形成的硅氧四面体[SiO4]相互衔接水平大,键数多,键能强,网络结构牢固,不易被水侵蚀。因而,SiO2含量高的光学玻璃化学不变性就好;反之SiO2含量低,而碱金属或碱土金属氧化物含量高的光学玻璃化学不变性就差,极易被侵蚀。侵蚀的了局:轻则扭转玻璃表表组成,产生氢氧化物、硅酸凝胶,甚至碳酸盐的覆盖物;沉则玻璃的网络结构遭到侵蚀粉碎。这里以侵蚀景象严沉的ZF6、ZBaF3等光学玻璃为例: ZF6、ZBaF3这两种光学玻璃SiO2的含量均在30%左右,同时耐水性差PbO、BaO的含量大大超过通常光学玻璃,它自身的组成结构就决定其化学不变性差。ZF6光学玻璃的PbO含量高达65%以上,玻璃的耐水性显著降低,这就可能在抛光过程中受水或抛光下盘以来受湿润空气侵蚀,其表表则有Pb(OH)2天生。即

PbSiO3+H2O=Pb(OH)2+H2SiO3

Pb(OH)2是一个很弱的碱,或者说是一个两性化合物,在水中溶化度极幼,属微溶性化合物,水解溶液中OH-离子很少。因而,ZF玻璃遇水后侵蚀缓慢,情况并不严沉;但受还原性物质NaSiO3的影响,这类高铅玻璃表表出现“铅膜”,玻璃表表呈阴暗的雾状膜.ZBaF3光学玻璃的BaO含量高达46%以上,ZK11光学玻璃的BaO含量高达48 9%,这些玻璃的耐水性显著降低,这就可能在抛光过程中受水或抛光下盘以来吸收带有酸性气体的湿润空气而受到侵蚀,使Ba++离子产生易溶于水或酸性的物质;这类玻璃水解时有Ba(OH)2天生。

BaSiO3+ 2H2O=Ba(OH)2+H2SiO3

Ba(OH)2+H2CO3(H2O+CO2)=BaCO3+ 2H2O

Ba(OH)2是一个比Ca(OH)2更强的碱,在水中溶化度也比 Ca(OH)2较大,这就意味着ZK、LaK的玻璃水解溶液中有大量的OH-离子存在,而OH-离子对玻璃网络体中的Si-O键进行亲核Siδ+Oδ- OH-进攻,使SiO键断裂。同时,玻璃水解后氢氧化物吸收空气中或水中的CO2,则天生碳酸盐2NaOH+CO2=NaCO3+H2O这时NaOH和NaCO3溶液也组成对玻璃的侵蚀,出格是由于NaCO3的畸形景象,对玻璃的侵蚀更为严沉,并粉碎玻璃立体的网络结构。同时,在抛光过程中由于玻璃的不休水解,产生出来的碱使抛光液的pH值不休上升,化学不变性差的光学玻璃使抛光液的pH值上升更快,有时甚至达到pH值8 5～9的平衡值。抛光液呈碱性后有大量的OH-离子存在,也就产生前述的OH-离子对玻璃网络结构中的Si-O键的亲核进攻,使SiO键断裂,玻璃主体的网络结构受到粉碎,造成玻璃的严沉侵蚀。如前所述,水对玻璃的侵蚀过程中把玻璃中的碱金属或碱土金属离子置换出来,在天生氢氧化物的同时玻璃表表也天生硅酸凝胶或碳酸盐等。它们在玻璃表表形成不规定的厚薄不均的过问薄膜或斑痕,在反射光下有的状态与色彩像飘浮在水面上的“油斑”,有的似天空中灰薄云层的“暗斑”“水印”或“灰路子”“白斑”等等。这些薄膜或斑痕表象各别,叫法分歧,但都是光学玻璃抛光表表受水、酸、碱等介质分歧水平侵蚀的了局。据以为:青色黑点是基于玻璃表表各类金属离子(如K+、Na+、Ca++等)的逸出而形成不规定的多孔性的硅酸薄膜,有时也有极幼量的各类金属离子盐类的微晶。由于表表厚度的不均匀性产生分歧的过问色彩,甚至出现彩虹色膜。而白色黑点则是基于玻璃表表各类金属离子(如K+、Na+、Ca++、Ba++、Pb++等)逸出形成硅酸薄膜的同时,还有大量的氢氧化物、碳酸盐、硫酸盐等微幼结晶天生。当把玻璃表表的白斑去掉以来,它下面则又能够看到青斑了Ｄ芄灰晕:光学玻璃在抛光过程中或抛光下盘以来,在它表表出现的油膜或黑点是由于玻璃受水或其它介质侵蚀而在玻璃表表产生的硅酸凝胶、氢氧化物、碳酸盐等的覆盖物。就其性质而言,这是一种化学侵蚀景象。

三、光学玻璃在抛光过程中的防护措施凭据以上会商,光学玻璃受侵蚀的水平,能够综合为:光学玻璃的组成结构,组成玻璃资料自身的化学不变性及其时所处的环境,即接触的水、酸、碱等介质这两个重要成分。而要扭转光学玻璃组成结构,以改善其物理化学机能,势必影响其光学机能,这就失去选取此类玻璃的现实意思了。只有在加工过程中改善其表部前提才是可行的。在抛光过程中由于抛光液的酸碱性或抛光液使用功夫的一连抛光液呈碱性等情况,都是可能的。遵循光学玻璃在抛光过程的化学作用的根基概想,以为抛光液的pH值出现弱酸性和中性对玻璃的侵蚀甚幼,有利于提高抛光速度和表表粗糙度;但随着抛光过程的一连,抛光液陆续使用功夫过长,其抛光液的 pH值呈上升趋向,即出现碱性。这是由于玻璃中的碱金属或碱土金属离子不休溶入抛光液。高速抛光的抛光液循环使用比力显著。即便古典法抛光、用毛笔蘸点抛光液后的残液不休带进抛光液中,其抛光液的pH值也是上升趋向。抛光液pH值的变动,出格是抛光液pH值的升高对玻璃抛光是极度不利的。现实出产中通常选用的抛光液pH值在6～7之间,有利于玻璃的水解,有较高的抛光速度;但也因光学玻璃的材质而有所分歧。因而,选择相宜的抛光液增长剂,使抛光液的pH值在较长功夫里维持在适当的领域内,以保障光学玻璃抛光的正常进行是预防光学玻璃在抛光过程中受侵蚀的一个沉要措施。为了保障光学零件抛光表表的质量,对那些耐酸性差的光学玻璃,把抛光液的pH值调节在7～8之间。如含BaO较高的光学玻璃,它耐酸性较差,即钡玻璃的耐碱性较好,所以在弱碱性的抛光液中进行抛光比力相宜。对那些耐碱性较差的光学玻璃,把抛光液的pH值调在6～6 5之间。如ZnO含量较高的光学玻璃耐碱性较差,但耐酸性好,所以在呈弱酸性的抛光液中抛光比力相宜。以及含TiO2较高的光学玻璃,它耐碱性较差,而耐水性、耐酸性较好,其抛光液的pH值调在6～7之间比力相宜。无论冕牌光学玻璃还是火石光学玻璃其抛光液的pH值处于5 8～6 8之间都有较高的抛光速度。当抛光液pH值高于7 5以来,抛光速度显著降落。这是由于抛光液呈弱酸性时,有利于玻璃的水解进行;其pH值升高以来,甚至达到水解平衡值,玻璃的水解速度减慢,硅酸胶体易于不变不利于抛光。这是由于:抛光液呈弱酸性时,有利于水解进行,即玻璃中的Na+、K+、Ca++等离子与水中的H+离子产生互换反映,这时玻璃的水解反映对抛光速度起了特殊的推进作用;当抛光液pH值偏碱性时,玻璃中碱金属的 Na+、K+等离子和碱土金属Ca++、Mg++等离子不易从玻璃中析出,而故障玻璃的水解反映,并直接影响硅酸胶体的不变性。由于硅胶易溶于碱性溶液,在碱性溶液中就能较不变的形成胶体状态。但硅胶不易溶于酸性溶液,这使硅酸胶体虽结成大颗粒沉淀,这样无疑是对抛光不利的。所以抛光液的pH值高时,则硅胶不变,不利于抛光。为了使抛光液的pH值不变在一个相宜的领域内,ReCl3?6H2O、CeCl3?7H2O、 NdCl3?6H2O、La(NO3)3?6H2O、Zn(NO3)2?6H2O都有使弱碱性溶液复原至中性和弱酸性的能力,其中ReCl3?6H2O和CeCl3?7H2O、Zn(NO3)2?6H2O的成效都很好。在表界碱量大大超过不变剂中和碱量的情况下,它们仍能节造抛光液的pH值在中性左近；旌下然⊥(ReCl3?6H2O)参与抛光液中,它不休水解产生H+离子,中和了玻璃水解而产生的OH-,水解平衡后产生有余的H+离子,因而使得抛光液的pH值维持在中性或弱酸性。锌盐(Zn(NO3)2?6H2O)或铝盐参与抛光液中,它不仅提高了玻璃的抛光效能,它守护抛光液呈中性作用。除水解产生的H+离子表,还有一个沉要作用,就是锌盐或铝盐在抛光液中有可溶性碳酸盐时,可促使锌盐或铝盐的齐全水解,天生相应的氢氧化物,

其反映为Zn+CO2+H2O= Zn(OH)2↓+CO2

而Zn(OH)2是一个两性化合物,当抛光液呈酸性时,阐发为弱碱性;当抛光液呈碱性时,则阐发为酸性,能起到自动调节pH值的作用。这时由于有下列平衡Zn+++2OH-碱性Zn(OH)2=2H+酸性+ZnO=2Al++++3OH-碱性Al(OH)3=H+酸性+AlO-2+H2O并且它们更具利用的宽泛性,在抛光液中参与肯定量的锌盐或铝盐能使抛光液的pH值靠近中性,维持抛光液pH值的不变性。同时,当抛光液出现碱性时有ZnO=2或AlO-2存在,还能抑造碱性溶液对光学玻璃的侵蚀作用,并提高了抛光效能,是光学玻璃抛光的优良增长剂。

四、光学玻璃抛光下盘后的处置玻璃对水的亲和力大,表表吸湿性强,最容易吸收的就是水。出格是刚刚抛光下盘后的光学玻璃表表留有不鼓和化学键,拥有很高的活性,极易吸收水份并与之产生反映。所以微量的水份及酸性气体对玻璃表表是极度有害的,化学不变性差的光学玻璃对此极度敏感。这与在酸性前提下进行抛光的情况是截然分歧的。玻璃的吸湿性很强,因而,刚抛光下盘后的光学零件应立即用无水的乙醇、乙醚混合液擦拭干净,并在红表灯下烘干,涂上有机硅增水膜层,烘干固化后再涂上中性；て。无水乙醇收敛玻璃表表水份的能力较强,有无水乙醚的存在也极易挥发;烘干后,除去玻璃表表的湿存水,不然即便很高的烘烤温度也难以除去玻璃表表的水份。硅有机化合物或其单体能在玻璃表表形成有机基团和硅氧烷群结合的有机硅氧薄膜和聚合硅氧膜[SiO2]n。O SiRROSiRRO 在玻璃表表产生肯定的烷基定向效应,形成一种有机硅氧膜。这种憎水膜能够借助于玻璃硅有机化合物的公共硅氧键而联结起来,起到樊篱；ぷ饔。即SiROOOSiROOSiROO玻璃表表光学玻璃抛光下盘后使用的憎水膜,通常为三烷基氧基硅烷[R3Si(OR′)],使亲水的玻璃表表扭转成憎水的玻璃表表,阻止空气中的水份或酸性气体的侵蚀；谝陨匣,选取十二烷基三甲氧基硅烷(49#防雾剂)配成适当浓度的无水乙醚溶液作为光学零件的防侵蚀资料.十二烷基三甲氧基硅烷经逐步水解缩合,产生如下反映C12H25Si(OCH3)3 +nH2OC12H25SiOHOHOH+3CH3OH它拥有长链的烷基C12H25—,有肯定的定向效应,能在玻璃表表形成缜密的烷基覆盖层。同时也拥有SiOHOHOH硅醇结构,能与玻璃表表起化学反映,经充分交联使膜层牢固的结合起来,有效的阻止空气中的水份或酸性气体的侵蚀。光学玻璃抛光下盘以来涂中性；て。除有上述的补充作用表,重要是为了；げＡ坠獗肀砻馐懿辽。但通常；て嵊涤兴嵝(如虫胶漆)或溶剂拥有毒性(如苯、香蕉水等)或侵蚀玻璃或对操作人员有害。我们研造的中性；て嵩し懒松鲜霰锥。它是以热塑性酚醛树脂为成膜物质,增长聚乙烯醇缩丁醛和硅有机化合物以改善酚醛树脂的脆性和吸湿性。用无水乙醇为溶剂,配造成适当浓度,便于涂敷和成膜,形成膜层对玻璃抛光表表有较好的附着性和防护能力,并便于洗濯。 _hq.R)r 0h

五、实现语

从玻璃的侵蚀机理启程,遵循光学玻璃在抛光过程中的化学作用,对ZK、ZF、ZBaF、LaK等化学不变性差的光学玻璃在其抛光液中增长适当的pH值调节剂及表表不变剂,在抛光过程中抑造玻璃侵蚀的可能性。使这几种光学玻璃抛光表表一次合格率从0%～10%左右别离提高到75%～85%左右。即便在高温高湿前提下,其一次合格率也能不变在75%以上。同时提高抛光速度近2倍;并提高玻璃抛光表表的粗糙度及“亮度”。抛光下盘以来,可存放数天或10多天功夫,便于零件运行和下路工序加工。在抛光下盘以来,再作若干补充防护措施,更为靠得住。这项有理论、有实际、可操作的对化学不变性差光学玻璃抛光过程中的防护措施,进一步提高了光学冷加工的效能和效益及其工艺技术水平。

抛光常见疵病产生原因及克服步骤

印迹

1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹

2)玻璃化学不变性不好

3)水珠、抛光液、口水沫等未实时擦拭干净

克 服 方 法

1)选用相宜的抛光胶,建刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合

2)抛光中产生的印Ｄ芄谎∮檬实钡脑龀ぜ;而落成后产生的印Ｄ芄槐；

3)预防对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学不变性不好玻璃还应烘

光圈变形

1)粘结胶粘结力不适

2)光圈未不变既下盘

3)刚性盘加工时,刚盘使用功夫较长未检测(沉孔脏或变形)

4)刚性盘加工时被加工工件表圆偏大,上盘步骤不当等

克 服 方 法

1)光圈变形重要产生在较薄的零件或不规定的零件,应选取适当的上盘步骤

2)应按工件大幼赐与肯定的光圈稳按功夫

3)刚盘定期进行检测和建改

4)严格按工艺和上盘操作规程加工

麻点

产 生 原 因

1) 精密磨、抛光功夫不够

2) 精密磨面立不均匀或中央与边缘相差大

3)有粗划痕抛断后的残迹

4)方形或长方形细磨后塌角

5)零件在镜盘上由于加工造成走动

6) 精密磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分

7) 抛光模加工功夫过长或抛光液使用功夫长而影响抛光效能

克 服 方 法

1) 精密磨应除去上路粗砂眼, 抛光功夫应足够

2) 精密磨光圈匹配切当,应从边缘向中央加工

3)发现后应作出标识单独摆放或沉抛

4)用开槽平模细模、增长砂要均匀

5)选用适当的粘结胶，节造工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚杜爪切合标 准

6)精密磨各路光圈匹配应严格按工艺操作领导卡操作

7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比沉、PH值等)周期性治理

划痕

产 生 原 因

1)抛光粉粒度不均匀或混有大颗；翟又

2)工房环境不干净

3)抛光资料(抛光胶或聚胺脂及粘贴胶等)不洁

4)擦布不洁及操作者带入尘埃

5)精密磨遗留划痕未抛掉或洗濯不彻底

6)查抄光圈工件或样板不干净、步骤不当

7)抛光资料(抛光胶或聚胺脂)偏硬、使用功夫长表表起硬壳或边缘有干硬堆积物

8)抛光模与镜盘不吻合

9)辅助工序(下盘、洗濯、周转、；て嵛锤傻)造成

克 服 方 法

1)选用粒度均匀和与玻璃资料对应抛光粉

2)做好“5S”工作

3)生活好所需用品

4)擦布洗濯生活及操作者穿戴好工作服和帽子

5)应自检

6)正确使用样板

7)选用相宜抛光资料(抛光胶或聚胺脂)，周期更换，对改或建刮抛光模

8)对改或建刮、沉新造作抛光模

9)按各辅助工序操作规程加工

光学冷却液在光学加工中的作用

在光学冷加工中，使用冷却液的主张是对金刚石磨削工具进行冷却，以带走光学玻璃加工过程中的热量，保障光学冷加工的顺利进行，但对这一主张，在使用水或其它有机液体作为冷却介质后，根基上都能够达到要求，尤其是使用水介质，成本便宜，冷却成效也极度梦想。但是若是在光学冷加工中用自来水来冷却，能够注定地说，其加工是低效能的，由于金刚石工具无法阐扬其最大的工作效能，因而冷却液的主题作用是与金刚石工具协调作用，保障金刚石工具能将自身的磨削效力阐扬到极至，同时较高质量的冷却液还能带来高质量的加工表表，削减对光学玻璃的浸蚀，降低抛光后水印和霉菌的产生。当然好的冷却液还应该拥有较好的缓蚀机能，没有气味和不传染环境及其它影响健康的不利成分。

1 光学冷却液的缓蚀机能

水与光学冷加工设备接触后，将直接导致设备的锈蚀，因而冷却液的缓蚀机能是冷却液最根基的技术要求。凭据光学冷加工设备常用的资料，应该对铸铁、通常钢板、铝件或铜件拥有缓蚀作用。质量较差的冷却液往往会加快设备侵蚀，降低冷加工设备的使用寿命，从而增长出产成本。

2 光学冷却液对金刚石工具的致锐机能

为了使光学冷却液拥有我们所必要的机能，我们在自来水中参与了某些个性物质，好比肯定量的金属缓蚀剂，表表活性剂，合适的光滑剂等物来组成冷却液的配方，它们的引入往往会带来我们不必要的一些景象，好比：泡沫、气味、对皮肤的过敏或刺激、对设备的侵蚀、毒性等，这些景象的强弱或大幼，直接影响了冷却液的综合机能。

2.1 光学冷却液在冷加工中与金刚石磨具的协调作用

高效光学冷加工通常分为铣磨(粗磨)，精磨，和抛光三个阶段，各阶段所选取的工艺参数、辅料直接影响了光学加工的效力。在铣磨(粗磨)，精磨或超精磨过程中，冷却液的作用不成幼觑。

用金刚石铣磨轮或钻石粒(丸片)加工光学玻璃通常分为三个阶段，即预磨、主磨削和光刀阶段。凭据各个阶段的主张，冷加工设备由继电器节造调压阀来调骨气压的大幼和磨削功夫。在预磨阶段，由于磨具与玻璃之间吻合不好，施与低压可预防冲击而使金刚石磨盘的丸片脱落或使镜盘工件打坏。在这一阶段，由于金刚石工具与被加工光学元件处于低压接触磨削状态，此时金刚石对光学玻璃的磨削量很幼，而同时，粗糙的玻璃表表对金刚石工具基体也产生磨削，作用的了局就是在金刚石工具的工作面上形成一个粉碎层，这个粉碎层由镶嵌在基体中的金刚石幼颗粒、合金基体的幼突起和被吸附的基体粉末、金刚石粉、玻璃粉等。此阶段是金刚石工具被致锐的阶段，也是冷却液阐扬作用的重要阶段，在此阶段，冷却液的作用是使吸附在工具表表的金属基体微幼颗粒和玻璃粉脱离工作面，从而增长了金刚石露出基体的高度，为主磨削作好筹备。在主磨削阶段，由于光学玻璃粗糙度逐步变幼，它与金刚石工具的接触面积增大，在主磨削高压挤压磨削状态下，在工作面将产生高热量，此时，磨具工作面由于压力和热量的作用，在预磨阶段产生的金属基体幼突起将产生塑性变形，凸起基体的金刚石微粉也被挤压而产生位移，被塑性变形的基体金属沉新包覆起来，在预磨阶段被吸附的基体颗粒有可能被沉新熔入基体，增长了金刚石微粉被包覆的水平，这种景象某些文件将之称为金刚石工具的 “腻塞”，导致的了局就是金刚石工具的切削力降落。在光刀阶段，压力变幼，光学件表表粗糙度得到进一步的降低。

2.2 冷却液在磨削中与金刚石工具的协同作用

凭据上述分析，冷却液最重要的作用就是将在精磨预磨阶段产生的基体粉末最大量地吸附或溶化到冷却液中，从而削减金刚石工具的 “腻塞”景象，以保障金刚石工具的切削力，若何达到这个主张呢?通常的见解有：

一是化学络合(共同)

在磨削过程中由于热量和空气的作用，基体金属有部门原子被氧化变为金属离子，合适的络合剂会与这些离子被络合而脱离磨具工作面。

二是化学侵蚀

从理论上讲，有肯定的路理，但是，它往往还与化学反映的速度有关，应该说，它只起到辅助作用，由于，相较于机械摩擦来说，受所选用的化学物质的限度，它的反映速度要慢得多。

然而上面的两种意识往往难于使冷却液达到所必要的机能，更深档次的意识是解决光学冷却液切削机能的技术主题。

2.3 冷却液中化学物质的选用与作用

作为冷却液配方物质的选择，其准则是：无毒、无味、不起跑(或低泡)，对皮肤刺激较幼，对环境无传染，当然这只是一种准则，由于为了两全资料的使用机能，往往难于达到每种资料都能满足凯时尊龙人生就是博要求，试验中往往以综合机能来对选用物质进行弃取。

2.4 冷却液的寿命`

冷却液在精磨加工中，切削力会缓慢降落，直到不能满足加工要求。陆续加工的功夫或加工的玻璃件数就是冷却液的寿命。切削力的降落能够理解为有效物质的亏损，从而使其作用降落。光学冷却液的使用寿命是衡量冷却液机能的另一个沉要尺度。 

3 结论

光学冷却液在光学冷加工中拥有极度沉要的作用，其选用直接影响了光学冷加工的效力，最高性价比是选用光学冷却液的最沉要的准则。

金刚砂

1891年，美国人阿切逊将粘土和焦炭混合后放在一个铁钵中，贪图用电弧将碳转化为金刚石。但了局是，在电极左近发现了闪闪发光的六方形晶体，它与天然金刚石的立方八面体分歧。阿切逊以为这可能是碳和粘土中的氧化铝反映而天生的新化合物。由于天然界中有一种氧化铝矿物称为刚玉，因而他把碳和刚玉两个英文单词连起来作为这一新化合物的名称，中国粹者将其译成“金刚砂”。后来人们知路这种化合物是由粘土中的二氧化硅与碳在高温下反映天生的碳化硅。

晶胞为面心立方结构，每个晶胞含有4个C原子4个Si原子。与金刚石结构类似。

碳化硅硬度仅次于金刚石、碳化硼和立方氮化硼，在无机资猜中排行第四。目前已能通过热压烧结法造得高致密度的碳化硅。它拥有很高的强度及优良的抗氧化机能，在高温下不变形，可作为高温燃气轮机上的涡轮叶片，也可作耐磨的密封资料，还可作火箭尾喷管的喷嘴及轻质的防弹用品等。

金刚砂，SiC，台甫碳化硅。纯的是无色晶体。密度3.06～3.20。硬度很大，约莫是莫氏9度。通常的是无色粉状颗粒。磨碎以来，能够作研磨粉，可造擦光纸，又可造磨轮和砥石的摩擦表表。由砂和适量的碳放在电炉中加强热造得。

天然金刚砂别名石榴子石，系硅酸盐类矿物。经过水力分选，机械加工，筛选分级等步骤造成的研磨资料。出产使用汗青悠久，古代我国就有使用金刚砂研磨水晶玻璃，各类玉石的史例。十九世纪四十年代又远销东洋。分粗目，中目，细目三大类。其中粗目为黑红色，中目为淡红色，细目为红白色，各类目数粒度均匀，颗粒状态均一，成棱叫角晶体，有敏感的边缘，磨削力高。供石材类工业研磨大理石及其它软质资料。玻璃类工业研磨玻璃毛边，电视机显像管，光学器械，镜片，棱镜，钟表用玻璃等。金属类工业喷砂，除锈，研磨。印刷工业研磨胶版，以及轻工业加工塑样，皮革，砂纸蹬酌途。

用处：

(1)对硅片、光学镜头 、精密仪器仪表、抛光？恰⒉Ａ髅蟆⑻沾墒稀⑵じ铩⑺芰稀⒔鹗艋能提高光洁度

(2)可喷砂切割，是造作砂轮、油石、砂布、砂的必须原料

(3)可作为构筑高速公路路面、飞机跑路、耐磨橡胶、工业地坪.防滑油漆等尚佳的耐磨资料

(4)可作化工、石油、造药、水处置过滤的介质和钻井泥浆加沉剂。

(5)对电镀、核传染的防护拥有优良的成效

(6)是水洗厂牛仔服喷砂车间用砂.水切割行业优质的配砂

天然金刚砂的磨削力略低于电炉白刚玉，但其任性强，拥有介壳状段口之个性，其利益是磨件的光洁度高，砂痕少而浅。磨面细而均匀，可提高产品质量，为本品的怪异之处。天然金刚砂的研磨功夫短，效益高，价值便宜，可添补寿命短的不及。

测定矿物的硬度，通常是把两种矿物对划，看那种矿物被划伤，以此来确定矿物的硬度。具体做法是选择10种“尺度矿物”，吓酌相互刻划的步骤别离确定出1～10个硬度等级，以来便用这些尺度矿物来刻划待测矿物，通过比力来确定后者的硬度。硬度1为最软，硬度10为最硬。用这种步骤测定的硬度，依照提出此步骤的科学家的姓氏，叫做“莫氏硬度”。若是没有出格注明，谈到硬度，多半指的就是“莫氏硬度”。

另表也有效绝对尺度来测定矿物的绝对硬度的步骤，例如“努普硬度”。这种步骤是在尖形金刚石的上方加上沉量，用尖头挤压待测矿物，而后丈量在矿物表表所形成的压痕的大幼和所施加的压力(单元为千克/毫米^2，通常暗示为“HK”)。由于这种步骤测出的是绝对硬度，所得的数值增长一倍，硬度也增长一倍。不外，这种测定硬度的步骤对所测矿物有较大危险，通常不大使用。

钻石的硬度为10~

光学洗濯工艺

影响洗濯的成分：

A，洗濯工艺的技术关键：光学玻璃经过洗濯后能否达到表表不留任何油污，污迹，表表光滑，水膜无缺!

B，影响洗濯后玻璃质量的成分及相应的解决步骤：

(1)玻璃自身的质量及被传染的情况，重要为：表表有霉点，气泡，划伤等，在机械处置中，如：研磨，搽试，测应力时，报答导致的传染情况不一;

(2)洗濯剂的选择其能动及温度，水质;

国际上利用最广的洗濯剂为CFC-113，四氯化炭，1-1-1三氯乙烷(简称ODS)等，此类清

洗剂对臭氧层有粉碎，属于非环保性洗濯剂;我们选取非ODS的水类碱性洗濯剂，重要由水，碱，表表活性剂，防锈资料组成，化学式C3H8，拥有侧链的环状烯烃，拥有较强的溶油能力;特点：低毒，不燃，洗濯成本低等特点;

(3)溶液的浓度直接影响洗濯度的大幼;

通常洗濯液的PH值通常在8.5-12之间，若PH值大于10，侧表表活性物质作用要减弱，当PH

值大于12时，侧清洁度降落。在现实使用中发现当溶液浓度过大，超过15%，洗濯成效不好

，不易漂洗，而浓度约为4%-7%时，侧洗濯成效较佳。

(4)溶液温度及浸泡功夫也同样影响去污效能;

当温度上升，溶液的反映速度也上升，传染物的粘度降落，便于传染物脱离，但溶液的不变

度降落。现实发现溶液温度50度，浸泡30分钟后，洗濯成效最好!

(5)在洗濯过程中，还该把稳必须使用纯水或去离子水，若使用自来水蹬撞水侧很难除去玻璃上的油污，且水中所含的Ca,Na离子等杂质会在烘干后的玻璃表表形成一层白色雾状膜，传染玻璃;

(6)玻璃经洗濯后需漂洗，漂洗后的清洁度，除与清洁剂的漂洗性和洗濯液中的清洁剂浓杜仔关表，还与漂洗工序的几多，漂洗供水量的大幼，温度及循环使用的纯水是否干净有关;

(7)洗濯环境的清洁水平;

(8)洗濯后的干燥工艺及温度：

应尽量保障玻璃垂直，可在玻璃下垫陶瓷柱，预防烘干后玻璃下沿有水印;烘箱温度节造在70度左右，功夫在20分钟左右。若温度过高，会在玻璃边角上产生斑纹

在光学冷加工中，镜片的洗濯重要是指镜片抛光后残存抛光液、黏结剂、；ば宰柿系南村;镜片磨边后磨边油、玻璃粉的洗濯;镜片镀膜前手指印、口水圈以及各类附着物的洗濯。传统的洗濯步骤是利用擦拭资料(纱布、无尘纸)共同化学试剂(汽油、乙醇、丙酮、乙醚)采取浸泡、擦拭等伎俩进行手工清擦。这种步骤费时费劲，清洁度差，显然不适应现代规；墓庋Ю浼庸ば幸。这迫使人们寻找一种机械化的洗濯伎俩来包办。因而超声波洗濯技术逐步进入光学冷加工行业并大显技巧，进一步推动了光学冷加工业的发展。

超声波洗濯技术的根基道理，大体能够以为是利用超声场产生的巨大作使劲，在洗涤介质的共同下，促使物质产生一系列物理、化学变动以达到洗濯主张的步骤。

当高于音波(28～40khz)的高频振动传给洗濯介质后，液体介质在高频振动下产生近乎真空的空腔泡，空腔泡在相互间的碰撞、归并、消亡的过程中，可使液体部门瞬间产生几千大气压的压强，如此大的压强使得周围的物质产生一系列物理、化学变动。这种作用称为"空化作用"：

1.空化作用可使物质分子的化池键断裂，引起各类物理变动(溶化、吸附、乳化、分散)和化学变动(氧化、还原、分化、化合)等。

2.当空腔泡的固有频率和超声频率相称时，可产生共振，共振的空腔泡内荟萃了大量的热能，这种热能足以使周围物质化学键断裂而引起物理、化学变动。

3.当空腔泡形成时，两泡壁间因产生极大的电位差而引起放电，以至腔内气泡活化进而引起周围物质的活化，从而使物质产生物理、化学变动。

超声场为洗濯提供了巨大的能量，但还需化学洗剂作为介质。通常将化学洗剂分为两类，一类是有机溶剂，重要是凭据类似相溶的化学道理，对有机物如：黏结剂(沥青、松香等)、；ば宰柿(沥青、树脂等)、磨边光滑油进行溶化。在光学洗净中，最初用三氯乙烯、芳香烃、氟里昂等作为洗濯剂，这类物质固然溶化性强，但有的易挥发，毒性大，有的对大气臭氧层有粉碎作用，被逐步禁用。现国内多选取一些上述物质的改进产品或某些碳氢化合物做溶剂。目前使用较多的另一类洗濯剂是以表表活性剂为重要成分的水基洗濯剂，其洗濯道理单一地说是由于表表活性剂的分子结构中同时含有亲油基的亲水基，拥有极性和结构不合称的特点。正是这种特点使得它能极大降低水溶液的表表张力，使物体表表易于润湿，表表污物易于被溶化，分散在洗濯液中而达到洗涤的主张。

超声波洗濯就是在液体洗濯介质中，利用超声场产生的巨大能量，通过物理、化学的综合作用而达到洗净主张的一种洗净伎俩。

那么，在光学冷加工中，超声波洗濯是若何实现洗净主张的呢?通常来说，洗濯工艺重要以干燥的方式定名，如ipa工艺，是指利用ipa(异丙醇)蒸汽进行脱水干燥的洗濯工艺，纯水工艺是指利用热纯水慢提拉或冷纯水甩干的方式进行干燥的洗濯工艺。当然，还有其他的定名方式。经过不休的变动、发展，光学冷加工中的洗濯工艺重要以ipa工艺和纯水工艺为主。

ipa工艺蕴含四个流程：洗涤、漂洗、脱水、干燥。

由于洗涤过程分溶剂洗濯和水基洗濯，所以有分歧的工艺：有先进行溶剂洗濯、溶剂蒸汽干燥再进行水基洗濯;也有先进行溶剂洗濯，再用乳化剂溶化溶剂，再进行水基洗濯的。显然，后者在流程上更流畅、紧凑，对设备要求也单一。经过洗涤后的镜片表表不会有结合牢固的污垢，仅可能有一些洗濯剂和疏松污垢的混合物。

我们知路，无机光学玻璃是一种过冷的熔融态物质，没有固定的分子结构，它的结构式可描述为二氧化硅和某些金属氧化物形成的网状结构。其骨架结构为键能很大的硅氧共价键，表围是键能幼、易断裂的氧与金属离子形成的离子键。在洗涤时，由于超声场和化学洗剂的共同作用，某些硅氧键含量少或者表围键能出格幼的的资料易于在洗濯过程中产生变动而导致洗涤成效不良。所以，选择机能和善的洗剂、相宜的洗剂浓度、温度、超声功率、洗涤功夫对保障镜片的洗濯质量极度沉要。

利用流水将洗涤后镜片表表的洗剂和污物溶化、排除的过程称为漂洗。影响漂洗成效的成分有以下几个：洗剂的漂清机能，漂洗水的纯度、温度以及流动性、超声波频率等。通常在40khz时，在常温下，电导率为0.1μs/m的纯水能够保障漂洗的要求。

经过漂洗后的镜片表表的干净杜爪和漂洗水干净度一致。当它进入ipa后，固然ipa能和纯水进行无限度的相混溶，但在超声波的作用下，这种混溶能进行得更急剧、彻底，从而使得镜片表表的状态和混溶后ipa一样。这一过程称为脱水。所以影响脱水的重要成分是ipa的纯度、超声波频率、脱水功夫。通常ipa的最低浓度要高于97%。

脱水后的镜片进入ipa蒸汽槽干燥。蒸汽槽的结构大体如下：槽体下部为ipa液体，周围是高沸点油加热腔，上部是由若干圈冷凝管萦绕成的冷凝区，冷凝管内是由冷水机提供的循环冷水，镜片由链条驱动的托架带头在干燥槽内运行。干燥的道理及过程如下：蒸汽槽ipa在高温油的加热下沸腾，蒸汽向上进入冷凝区，在冷凝区形成浓度、温度相对不变的蒸汽区，脱水后表表附有液体ipa的镜片进入蒸汽区时，蒸汽区的蒸汽在低温的镜片表表冷凝液化，冲刷镜片表表，如同"淋浴"，当镜片表表温度和蒸汽温度一样时，已不再附有液态ipa，而全转化为ipa。此时，镜片在托架的带头下上升回到冷凝区，在这一过程中，由于温度的渐低，镜片表表ipa蒸汽冷凝液化，液化的ipa一部门在表表张力和沉力的作用下脱离镜片，一部门在夹具散热时挥发脱离镜片表表，经以上过程后，镜片表表得到干燥。由此可见，影响干燥的成分好多：ipa的纯度、干燥地位、链条的提升速度、冷水机的水温、冷凝行程的长短、干燥功夫、夹具资料、状态的选用等等。

以上是ipa工艺的四个流程简介，纯水工艺由三个流程组成：洗涤、漂洗、干燥。洗涤和漂洗与ipa工艺一样，不再沉复。区别在于干燥。干燥分两种情况，热纯水慢提拉和冷纯水甩干。

电阻率大于15mω·m纯水在某一高温下，表表张力能达到最大，漂洗后的镜片浸入其中，表表不被润湿，在倾斜慢提拉脱离时，由于极大的表表张力。纯水迅速在表表收缩成球形脱离镜片，脱水后的镜片在过滤的热风下而达到干燥。所以，水的纯度、温度、慢提拉速度、工件的倾斜度、热风的干净度对干燥的影响极度大。

冷纯水甩干的工艺很单一：经过纯水漂洗后的镜片放入离心甩干机中，在工件获得平衡时，启动甩干机，利用离心分离的道理将镜片表表的纯水分离达到干燥，对要求不高的镜片能获得中意成效，且能节俭ipa和场地。但对甩干机的平衡机能要求很高。

以上是对光学冷加工中超声波洗濯工艺的一些简介，实现工艺的载体是设备，一台设计合理、机能不变的超声波洗濯机能充分阐扬超声波洗濯工艺的专长。

镀膜过程中喷点、潮斑(花斑)的成因及解除步骤

真空镀膜的过程中有时会产生喷点及潮斑(花斑)，这些喷点、潮斑(花斑)极大的影响了薄膜的品质，降低产品的合格率。本文将对喷点、潮斑(花斑)的形成原因以及解除步骤作一探求。

一.喷点形成的原因

镀膜过程中产生喷点重要有以下几种原因:

1. 镀膜资料纯度不高，含杂质较多,预熔过程中无法将这些杂质去除,蒸镀过程中杂质溅上工件表表形成喷点。

2. 资料较为湿润,预熔时电子枪光斑不能将表表的资料全数溶解,在蒸镀过程中也容易产生喷点(这种情况在用国产电子枪镀造MgF2及一些直接升华的资料时较易产生)。

3. 镀膜前对资料进行预熔时不够充分,蒸镀过程中资料里的藐幼颗粒溅上工件表表形成喷点。

4. 镀膜过程中,电子枪束流过大引起的资料飞溅产生的喷点。

二.潮斑形成的原因:

1. 洗濯液配比不好,含有较多水份,洗濯后工件表表留有残迹,镀膜后形成花斑。

2. 镀造两个面以上的工件时,一面镀造实现,洗濯第二面时,镀造完的一面受到传染,在第二面镀膜后形成花斑。

3. 工件自身含有的水份(工件白片造作过程细解),在蒸镀前的烘烤过程中逸出,蒸镀后形成潮斑。

4. 镀膜夹具在烘烤过程中会有水汽以及其它废气排出,蒸镀后在工件表表形成潮斑且对镀膜后的光学个性产生影响。

针对以上喷点、潮斑(花斑)的成因,在出产中采取了以下一些措施以解除喷点、潮斑(花斑):

1. 选择靠得住的资料供给商,并对采办的每批资料在投入使用前先做一测试,判定资料的靠得住性。

2. 规范资料的领用、生活,(干燥缸,干燥剂)保障资料不受潮,资料性质无变动。

3. 规范镀膜操作,严格执行预熔、蒸镀的操作规程。蒸镀前的资料预熔肯定要彻底,镀造某些较厚的膜层时能够选取屡次预熔的步骤解除喷点。

4. 规范洗濯操作,加强洗濯后的查抄,提高洗濯质量,解除因洗濯而产生的潮斑(花斑)。

5. 调整烘烤温度,解除烘烤原因产生的潮斑。

6. 规范镀膜夹具的治理。每次投入使用前,夹具必要先经过洗濯、烘烤(300度,3幼时以上)能力投入出产。

7. 设计镀膜夹具时,尽量选取在真空室内放气量幼的资料,同时可采取夹具表表镀Ni的步骤降低夹具的放气量,解除由此产生的潮斑(花斑)。

通过以上这些措施,镀膜过程中产生的喷点、潮斑(花斑)能够得到极度有效的节造。